第277章 EUV光刻机与dUV光刻机！    当然，此时的绝大部分记者们并不知道如果想要生产90纳米和65纳米芯片

    其实不一定需要采用第5代浸没式光刻机技术，直接研发采用第四代的ArF干式光刻机技术也校    因为第四代的ArF干式光刻机的光源波长是193nm，这193nm光源波长理论上最高是能生产65纳米芯片的

    但做事不能考虑到短期，还要考虑到长期乃至更长期的未来发展线路

    第5代浸没式光刻机技术是个神奇的技术，这技术在去年2003年10月才正式研发完成并推出第一代光刻机产品

    此时这第5代浸没式光刻机虽然已经有了许多技术专利墙在前，但还没有形成如同前世一样绝对无法突破的技术专利铜墙铁壁

    此时的曙光科技还有着绕过阿思麦与台积